研究方向：

先进半导体芯片制造用的高端光刻胶、光刻材料和相关工艺集成的研究（微电子方向）

90nm～5nm节点高端半导体光刻材料的研发

探索Moore's Law的材料极限，研发下一代10～5 nm分辨率的光刻材料DSA

研究DSA的图像化工艺和plasma刻蚀工艺

纳米器件的设计和加工

纳米材料的精密设计和合成 （材料方向）

新型纳米材料、器件的研发，序列可控聚合物及其纳米复合材料的研究

学术经历：

1997年-1998年University of California, Berkeley, Chemistry Dept. 化学系，博士后

1996年-1996年美国University of Akron, Polymer Science 高分子系，博士后

1992年-1995年日本Tokyo institute of technology 高分子化学，博士

1990年-1992年日本京都大学，高分子化学硕士

1984年-1988年中山大学，有机合成学士

工作经历：

2015年-至今复旦大学，教授、国家高层次人才

2014年-2015年TOK美国，Fellow

2001年-2014年美国Intel公司，光刻工艺研发工程师&FMO材料研发主管

1998年-2000年美国ROHM&HAAS公司，高级研究员