研究方向：

集成电路先进光刻工艺及光刻相关设备、光刻材料、光刻相关算法软件

教育背景：

2010年09月～2015年06月 复旦大学信息科学与工程学院，光学，博士

2006年09月～2010年06月 山东大学信息科学与工程学院，光信息科学与技术，本科

工作学术经历：

2021年06月-至今 合乐HL8注册登录，青年研究员

2018年11月-2021年05月 上海集成电路研发中心有限公司，新型器件和材料实验室

2015年07月 -2018年11月 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司，光刻研发部 

获奖或荣誉：

2020年中国国际半导体技术大会（CSTIC 2020）最佳年轻工程师二等奖

代表性成果：

1.Yanli Li，Qiang Wu, and Shoumian Chen,“The Soft X-Ray Lithography Performance under Typical Single-digit nm Logic Design Rules, Including Stochastics and Defectivity”，IEEE Xplore , 2020.

2.Yanli Li，Qiang Wu, and Yuhang Zhao, “A Simulation Study for Typical Design Rule Patterns and Stochastic Printing Failures in a 5 nm Logic Process with EUV Lithography”，IEEE Xplore , 2020.

3.Yanli Li，Qiang Wu, and Shoumian Chen，“A Simulation Study for Typical Design Rule Patterns in a 5 nm Logic Process with EUV Photolithography Process”，J. Microelectron. Manuf. 2019, 2(4):7.

4.Yanli Li*, Xiaona Zhu, Shaofeng Yu, and Qiang Wu*，“A Study of the Advantages to the Photolithography Process brought by the High NA EUV Exposure Tool in Advanced Logic Design Rules ”，IEEE Xplore , 2021.

5.Qiang Wu*，Yanli Li*, Xiaona Zhu, and, Shaofeng Yu，“The Discussion of the Typical BEOL Design Rules from 3 nm to 2 nm Logic Process with EUV and High NA EUV Lithography”，IEEE Xplore , 2021. 

6.Qiang Wu*，Yanli Li*, Liwan Yue*, and, Zhibiao Mao，“Process Model Guided Photoresist Formulation Optimization”，IEEE Xplore , 2021.