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朱 宝
青年副研究员
电        话:
邮        箱:
baozhu@fudan.edu.cn
地        址:
复旦大学邯郸校区新闻综合楼西206室
研  究  所:
微纳电子器件研究所

教育背景:

2012年09月-2016年01月 复旦大学,微电子学与固体电子学,博士


工作学术经历:

2022年07月-至今复旦大学,青年副研究员

2019年04月-2022年07月国家集成电路创新中心,研发部部长

2017年04月-2019年03月复旦大学,博士后

2016年04月-2017年03月美国PDF Solutions上海分公司,数据分析工程师

2013年08月-10月德国莱布尼茨固态材料研究所,访问学者 


获奖或荣誉:

1、荣获2018年度第64批中国博士后科学基金面上资助二等资助

2、荣获2016年度Lam Research-复旦大学微电子论文奖学金一等奖

3、荣获2014年上海市研究生学术论坛优秀论文二等奖


代表性成果:

近五年,在ACS Applied Materials & Interfaces、Journal of Power Sources、 The Journal of Physical Chemistry C、Nanoscale Research Letters、Journal of Physics D: Applied Physics、Journal of Applied Physics发表学术论文10余篇。以第一发明人申请发明专利76项,其中获授权中国发明专利33项。

1、Baoyi Yin, Liang Hao*, Tao Wei, Chen Wang*, Bao Zhu, Xiaogan Li,Qiguo Yang. Defect engineering on sea-urchin-like transition-metal oxides for high-performance supercapacitors. Journal of Power Sources. 2022, 53(15).

2、Bao Zhu, Xiaohan Wu, Wen-Jun Liu, Hong-Liang Lu, David Wei Zhang, Zhongyong Fan, Shi-Jin Ding*. High Performance On-Chip Supercapacitors Based on Mesoporous Silicon Coated with Ultrathin Atomic-Layer-Deposited In2O3 Films. ACS Applied Materials and Interfaces. 2019, 11 (1).

3、Bao Zhu, Xiaohan Wu, Wen-Jun Liu, Shi-Jin Ding*, David Wei Zhang, and Zhongyong Fan. Dielectric Enhancement of Atomic Layer Deposited Al2O3/ZrO2/Al2O3 MIM Capacitors by Microwave Annealing. Nanoscale Research Letters. 2019, 14 (53).

4、Bao Zhu, Zi-Jun Ding, Xiaohan Wu, Wen-Jun Liu, David Wei Zhang, Shi-Jin Ding*. Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition of Cobalt Films Using Co(EtCp)2 as a Metal Precursor. Nanoscale Research Letters. 2019, 14 (76).

5、Bao Zhu, Wen-Jun Liu, Shi-Jin Ding*, David Wei Zhang, and Zhongyong Fan*. Formation Mechanism of Heavily Doped Silicon Mesopores Induced by Pt Nanoparticle-Assisted Chemical Etching. The Journal of Physical Chemistry C. 2018, 122 (37).