一、导师简介：

邓海博士，合乐HL8注册登录&聚合物分子工程国家重点实验室，教授，博士生导师。师从活性自由基聚合和活性阳离子聚合的先驱者Sawamoto教授，曾在美国Akron大学高分子系、加州伯克利大学化学系深造，关于立体可控聚合的研究成果收录在美国的教科书中。此外，邓教授拥有丰富的产业经验，特别是乳液聚合、半导体光刻材料的研发经验。曾任美国罗门哈斯公司（现为陶氏化学公司）高级研究员、美国英特尔公司材料部门高级主管，TOK公司Fellow。

二、研究内容和方向

1）先进半导体芯片制造用的高端光刻胶、光刻材料和相关工艺集成的研究（微电子方向）

 a. 90 nm～5 nm节点高端半导体光刻材料的研发；

 b. 探索Moore's Law的材料极限，研发下一代10～5 nm分辨率的DSA光刻材料；

 c. 研究DSA的图像化工艺和plasma刻蚀工艺；

 d. 纳米器件的设计和加工；

2）纳米材料的精密设计和合成 （材料方向）

 新型纳米材料、器件的研发，序列可控聚合物及其纳米复合材料的研究

课题组网站：http://www.polymer.fudan.edu.cn/polymer/research/denghai/

                      https://mp.weixin.qq.com/s/R9QVORhs_2p3hSVfxEAFCQ

Table 1. DSA Materials for Sub-5 nm Resolution

三、应聘条件

  研究内容：拓展已有DSA材料，并研发下一代的半导体芯片光刻工艺，形成5nm L/S分辨率的DSA光刻技术。

博士后1：

1、具有较强的微电子研究背景，具有EBL、RIE和SEM操作经验，有fab的光刻经验者优先考虑（应届的或者有工作经验的）。
2、以第一作者身份在国际重要学术刊物上发表过研究论文，具有较强的英文写作与阅读能力。

3、需要具有一定的指导学生的能力。将会带领在读的硕士、博士生进行项目攻关，主要进行DSA材料的图案化结构处理、刻蚀工艺的探索以及结构表征等工作。

博士后2：

1、具有高分子物理或化学研究背景，擅长纳米材料的表征如XRD，SEM，AFM等。有嵌段高分子共聚物或自组装方向研究经历者优先考虑。
2、以第一作者身份在国际重要学术刊物上发表过研究论文，具有较强的英文写作与阅读能力。

四、博士后薪资与待遇

  博士后工资为每年18万，其他福利待遇参照复旦教师，如博士后公寓、五险一金等。课题组将提供充足的科研经费，良好的微纳电子和系统研究实验条件，并提供出国参加国际会议等访问交流机会。

  本课题组与国内外的知名企业有广泛的合作，课题组成员可以跟踪了解半导体业界最先进的工艺流程和管理方式,可以为候选人提供未来事业发展的支持，可以优先推荐给陶氏化学、中芯国际等公司。

五、应聘方式

  申请人请以“博士后申请-博士毕业院校-姓名”为邮件标题，简要地写明研究背景、研究兴趣、个人职业规划和拟入职时间，并附上个人简历及代表性论文发送至邮箱：haideng@fudan.edu.cn。